【重塑千禧年代】小说免费阅读，请收藏 爱微阅读网【2vdu.com】
前者需要更高的分辨率，需要更好的光吸收和图案传递。
如果直接把中芯20nm工艺所用的光刻胶挪到冰芯16nm上面，会影响到芯片的尺寸精度和电路的完整性，更精细结构中也难以拥有合标的对比度，这就会让显影过程中难以区分图案和背景。…。。
以及，不同工艺还存在兼容性问题，有可能出现残留物、桥接或缺失等工艺缺陷。
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