252 一子解双征(4k)(2/5)

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  方卓起身欢迎,简单寒暄两句就让他坐在旁边一起听。

  “现在这个2-8光刻胶还存在不少优化空间,30%的良率肯定是能提高的,方总,因为这个不单是光刻胶的问题,比如,我们可以做光学临近校正opc,做相移掩模psm等优化,这些都可以改善光的传播和相互作用,可以优化图案的分辨率和对比度。”阎宗瑞过去一年多时间就负责这一块,不用多想就侃侃而谈,“只是说,最终良率能提升到什么地步,这就不好保证了,50%?60%?”

  不管60%还是50%,这和冰芯自身先前的竞争力都天差地别。

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